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阿斯麦DUV光刻机管制出现新动向,荷兰首相再谈MATCH Act,称有望与美方达成协议
    发布时间: 2026-09-25 23:13    
阿斯麦DUV光刻机管制出现新动向,荷兰首相再谈MATCH Act,称有望与美方达成协议


 

当地时间9月24日,荷兰首相杰滕(Rob Jetten)在纽约接受彭博电视采访时表示,他已就MATCH Act与美国总统特朗普及美国议员进行了多次沟通,并对双方最终达成协议表示乐观。

杰滕表示,他与特朗普及美国议员多次讨论MATCH Act以及保护荷兰半导体产业的问题,并称相信双方能够达成“各方都能接受”的协议。

谈及现有出口管制时,杰滕称荷兰对阿斯麦实行的相关措施已经非常严格,并将这些措施的目的表述为所谓的“防止技术被窃取以及防止中国在芯片产业取得主导地位”,同时强调荷兰希望以一种“平衡”的方式实施管制。

今年4月,杰滕随荷兰国王威廉·亚历山大、王后马克西玛访美期间,已经向美方提出MATCH Act问题。荷兰政府随后公开表示,反对法案涉及的域外管辖安排。6月,荷兰贸易部长斯约尔德斯马又在华盛顿向美国商务部长卢特尼克和美国议员提出相关关切。此次杰滕再次公开谈及MATCH Act,表明美荷双方围绕该法案的沟通仍在继续。

MATCH Act全称Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act。美国众议院版本H.R. 8170由众议员迈克尔·鲍姆加特纳于2026年4月2日提出,参议院对应版本S.4281由参议员皮特·里基茨等人于4月13日正式提出。4月22日,美国众议院外交事务委员会以36票赞成、8票反对,通过经过修改的替代版本。截至当前,众议院版本尚未进入全院表决,参议院版本仍在委员会审议阶段。

MATCH Act试图进一步协调美国与荷兰、日本等半导体设备供应国的出口管制,其中阿斯麦浸没式DUV光刻设备是影响较大的部分。阿斯麦EUV光刻机此前一直未获荷兰政府许可出口中国,部分先进DUV设备目前也已受到荷兰出口许可要求约束。MATCH Act如果最终成为法律,相关限制可能进一步覆盖更多半导体制造设备,并影响设备出口、再出口、境内转移以及维护、软件和固件更新、技术支持等服务。

按照4月22日美国众议院外交事务委员会通过的替代文本,法案生效后90天内,美国有关部门应共同开展审查,识别关键瓶颈半导体制造设备和关键半导体制造设施。120天内,美方应向美国国会报告与盟友供应国的磋商进展。240天内,美国商务部长还须发布相应管制规则;同一节点,美方应确认盟友供应国是否已经采取法案规定的管制措施。无法认证所有盟友供应国均已采取相关措施时,美国商务部长须按照法案规定,对相关设备施加美国管制或者建立美国管辖。法案同时规定,在满足特定国家安全条件时,第3(f)(2)项下有关盟友管制认证的240天期限可以一次性延长最多60天。

外交事务委员会通过的文本授权美国政府在盟友未采取相应措施时,对有关外国制造设备建立美国管辖,并可通过最终用途限制、取消现有许可证例外以及明确EAR第764.2节或者第736.2节“GP 10”的适用等方式实施管制。售后服务同样被纳入范围,法案对“servicing”的定义包括安装、校准、维修、翻新、测试、故障诊断、软件和固件更新、培训及技术支持等活动。

阿斯麦2026年第二季度数据显示,中国占其净系统销售额的14%,第一季度为19%,2025年第四季度为36%。美国银行此前进行的情景分析认为,如果对中国的浸没式DUV设备销售和相关服务受到全面限制,阿斯麦营收可能减少约14%至15%,息税前利润(EBIT)可能减少16%至17%。

MATCH Act目前仍处于美国国会立法程序之中,其最终文本以及本届国会后续立法进程仍存在不确定性。